首页 > SCI期刊 > SCIE期刊 > 物理与天体物理 > 中科院2区 > JCRQ3 > 期刊先容
评估信息：
年发文量：0
《微纳光刻手艺杂志》(Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems)是一本以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY综合研讨为特点的国际期刊。该刊由SPIE出书商创刊于2007年，刊期Quarterly。该刊已被国际主要权势巨子数据库SCIE收录。期刊聚焦ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY范畴的重点研讨和前沿停顿，实时刊载和报道该范畴的研讨功效，努力于成为该范畴同业停止疾速学术交换的信息窗口与平台。该刊2023年影响因子为0。CiteScore指数值为3.4。
The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.
《微/纳米光刻、MEMS 和 MOEMS 杂志》（JM3）颁发同业评审的论文，内容触及光刻、制作、封装和集成手艺的迷信、开辟和理论，这些手艺对知足电子、微电机系统、微光电机系统和光子学行业的须要必不可少。
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》(微纳光刻手艺杂志)编辑部通信体例为SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。若是您须要辅佐投稿或润稿办事，您可以或许征询咱们的客服教员。咱们专一于期刊征询办事十年，熟习颁发政策，可为您供给一对一投稿指点，防止您在投稿时频仍碰鼻，节流您的可贵时候，有用晋升颁发机率，确保SCI检索（检索不了全额退款）。咱们视诺言为生命，多方面确保文章宁静失密，在任何环境下都不会泄漏您的小我信息或稿件内容。
2023年12月进级版
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 物理与天体物理 | 2区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 资料迷信：综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 | 3区 3区 3区 3区 | 否 | 否 |
2022年12月进级版
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 物理与天体物理 | 3区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 资料迷信：综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
2021年12月旧的进级版
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程手艺 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 资料迷信：综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
2021年12月根本版
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程手艺 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 资料迷信：综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
2021年12月进级版
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程手艺 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 资料迷信：综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
2020年12月旧的进级版
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程手艺 | 3区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 资料迷信：综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
根本版：即2019年12月17日，正式宣布的《2019年中国迷信院文献谍报中间期刊分区表》；将JCR中一切期刊分为13个大类,期刊规模只要SCI期刊。
进级版：即2020年1月13日，正式宣布的《2019年中国迷信院文献谍报中间期刊分区表进级版（试行）》,进级版接纳了改良后的目标体例系统对根本版的延续和改良，影响因子不再是分区的独一或决议性身分，也不了分区的IF阈值期刊由根本版的13个学科扩大至18个，科研评估将加倍明白。期刊规模有SCI期刊、SSCI期刊。从2022年起头，分区表将只宣布进级版功效，不再有根本版和进级版之分,根本版和进级版（试行）将过渡共存三年时候。
JCR分区品级：Q3
| 按JIF目标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 187 / 275 |
32.2% |
| 学科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 255 / 342 |
25.6% |
| 学科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 91 / 107 |
15.4% |
| 学科：OPTICS | SCIE | Q3 | 68 / 100 |
32.5% |
| Gold OA文章占比 | 研讨类文章占比 | 文章自引率 |
| 7.69% | 0.00% | -- |
| 开源占比 | 出书国人文章占比 | OA被援用占比 |
| 0.07... | -- | -- |
名词诠释：JCR分区在学术期刊评估、科研功效展现、科研标的目的指导和学术交换与协作等方面都具备主要的代价。经由过程对期刊影响因子的切确计较和详尽分别，JCR分区可以或许清楚地反应出差别期刊在统一学科范畴内的绝对地位，从而赞助科研职员精确辨认出高品质的学术期刊。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指数 | ||||||||||||||||||||||||
| 3.4 | 0.393 | 1.723 |
|
名词诠释：CiteScore是基于Scopus数据库的全新期刊评估系统。CiteScore 2021 的计较体例是期刊比来4年（含计较年度）的被引次数除以该期刊近四年颁发的文献数。CiteScore基于环球最广泛的择要和引文数据库Scopus，合用于一切延续出书物，而不只仅是期刊。今朝CiteScore 收录了跨越 26000 种期刊，比取得影响因子的期刊多13000种。被各界人士以为是影响因子最无力的合作敌手。
积年中科院分区趋向图
积年IF值(影响因子)
积年引文目标和发文量
积年自引数据
中科院分区：1区
影响因子：7.7
审稿周期：约Time to first decision: 9 days; Review time: 64 days; Submission to acceptance: 82 days; 约2.7个月 约7.8周
中科院分区：1区
影响因子：8.1
审稿周期：约Time to first decision: 6 days; Review time: 44 days; Submission to acceptance: 54 days; 约4.1个月 约6.8周
中科院分区：3区
影响因子：3.3
审稿周期：约17.72天 11 Weeks
中科院分区：1区
影响因子：98.4
审稿周期： 约3月
中科院分区：2区
影响因子：5.8
审稿周期： 约2.4个月 约7.6周
中科院分区：2区
影响因子：5.1
审稿周期： 约1.9个月 约2.7周
若用户须要出书办事，请接洽出书商：SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。
